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等離子體是一種全部或部分電離的氣態物質,含有亞穩態和激發態的原子、分子、離子,并且電子、正離子、負離子的含量大致相等,即其總的正、負電荷數相同,故稱為等離子體,繼固態、液態、氣態三種狀態后,被稱為物質的第四態。

等離子體處理原理

在等離子處理過程中，特殊的電離氣體（由離子、電子、離子團和中心粒子組成）轟擊在材料表面，高能量的等離子體（0~20eV）給予聚合物鏈（0~10eV）足夠的能量使聚合物表面分子鏈的化學鍵發生破壞，發生一系列的物理化學變化。

真空等離子處理

低溫等離子體處理原理主要包含三個方面

第一，等離子體表面清洗作用。由于等離子體是由真空室中氣體輝光放電產生的，因而含有許多“活性”組分，包括：處于高速運動狀態下的高能電子，電離導致的離化狀態下的原子和分子，處于激活狀態下的中性原子、分子、原子團等，未反應的原子和分子。這些“活性”組分可以去除材料表面靜電、粉塵和油污雜質，使得表面得到徹底清潔，大大提高了材料的表面性能；

第二，等離子體表面活化作用。一般而言，等離子體中的“活性”組分能量都較高，其中高速運動狀態下的電子能量在幾到幾十之間，大于樹脂等聚合物材料中的分子結合鍵能（幾到十幾之間），因此可以破壞聚合物分子中的鏈式基團并形成一些自由基，不同氣體源等離子體粒子會與材料表面發生一些化學變化，相應引入不同的極性基團，如氧等離子處理引入含氧基團、氮或氨等離子體引入含氮基團等，從而增加材料表面活性；

第三，等離子體表面刻燭作用。等離子體中的高能“活性”組分強烈地轟擊材料表面，并與之發生相對復雜的物理變化，產生較強的刻蝕作用，移除表面一些不穩定的結合層，增加表面的凹凸起伏性和表面粗糙度，有利于提高復合材料表面的整體穩定性。

電暈處理原理

電暈處理原理是將高頻高壓電施加于致電電極，在電極兩側出現強電場使得附近的空氣電離，電離后產生的各種等離子體在電場作用下，加速并沖擊處理裝置內的材料，增加材料的表面粗糙度，放電還會產生大量臭氧，臭氧是一種強氧化劑，能使材料氧化，產生大量的極性基團（通常是羧基和羥基），提高材料的表面能。

電暈處理

等離子處理和電暈處理的區別與聯系

大多數情況下,等離子體根據溫度分為高溫等離子體和低溫等離子體。低溫等離子體主要采用電場、光、高能射線、高能射線或高溫等方式，通過加速電子、離子或高能中性顆粒的撞擊，使其電離而產生。用于材料表面改性的低溫等離子體根據放電方式的不同來看，低溫等離子體主要有弧光放電、電暈放電、輝光放電、介質阻擋放電、大氣輝光放電等方式。各種放電方式均有自己的放電特點和適用條件。

簡單點來說電暈放電屬于低溫等離子體放電，電暈放電是在電極周圍電場極不均勻且壓強較高情況下產生的一種微弱的不穩定放電，通過改變電極結構可實現大氣壓條件下的穩定放電，但所獲得的等離子體的電離度較小，功率低且不穩定，容易轉化為弧光放電。

下面從兩個方面來了解等離子處理和電暈處理的區別與聯系

被處理材料形狀

常見的電暈處理設備，是通過在陶瓷電極與金屬輥之間施加高頻電壓，中間氣隙區域的空氣電離產生等離子體，由于放電間隙的存在，電暈處理對于被處理材料的厚度有一定限制，一般在0-5mm左右，所以電暈常見被用來處理薄膜材料，或者薄板、布匹等。

而等離子處理設備，根據放電結構不同，可以做成不同類型的設備，對于被處理的材料性狀幾乎沒有限制，無論是薄膜，片材，亦或者異形件，幾乎都有適合的等離子處理設備可以滿足。

處理效果

一般來說電暈處理電離的氣體主要是空氣，并且電暈放電所形成的等離子體放電較弱且不均勻，對等離子體和活性顆粒的生成效率過低；所以電暈放電只適合應用于對電子能量和電子密度要求不高的方面，用于粘合力要求不是很高的產品，如布、塑料薄膜、塑膠等，生產成本不高，但效果非常的好。

等離子處理從工藝氣體選擇上可以通入幾乎所有類型的氣體，并且等離子體設備的電離度一般比電暈設備高，意味著等離子體密度較高，也就等離子處理效果相對而言也會更好，并且等離子處理的均勻度也會比電暈更好。

以上就是關于電暈處理和等離子處理的區別與聯系的簡單介紹，總體來說等離子處理和電暈處理改性材料的原理都是一樣的，都是通過產生低溫等離子體和材料表面發生物理和化學反應，達到改變材料性質的目的。不同的是電暈處理和等離子處理設備，產生等離子體的原理不一樣，導致其適用材料和處理效果稍微有所差別。